溅射钼靶材因其自身优点，已经在电子行业、太阳能电池、玻璃镀膜等方面得到了广泛的应用。随着现代科技微型化、集成化、数字化、智能化的快速发展，钼靶材的用量将持续增长，对其质量要求也必将越来越高。所以有必要对钼靶材的利用率进行提高，下面小编就来介绍几点提高溅射钼靶材利用率的措施。

　　如何提高溅射钼靶材利用率

　　1、背面加电磁线圈

　　平面钼靶

　　想提高溅射钼靶材的利用率，可以在平面的磁控溅射钼靶材的背面加上一圈电磁线圈，通过电磁线圈的电流来改变钼靶材表面的磁场大小，以提高钼靶材的利用率。除提高利用率外，还能提高溅射效率。

　　2、采用管状旋转靶材

　　旋转钼靶材

　　相比平面靶材，采用管状旋转靶材结构的设计显示出它的实质性优势，一般平面靶材的利用率低，仅为仅为30%~50%，所以现在很多厂家都在应用旋转空心圆管磁控溅射靶，其优点是靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转，靶面360°可被均匀刻蚀，其利用率可从平面靶材的30% ~ 50%增加到80%以上。此外，旋转靶的寿命要比平面靶材高5倍。由于旋转靶材在溅射过程中不停的旋转，在它的表面不会产生重沉积现象。

　　3、更换新型溅射设备

　　提高靶材利用率的关键在于实现溅射设备的更新换代。钼溅射靶材在溅射过程中靶材原子被氢离子撞击出来后，约由六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上，增加清洁真空设备的费用及停机时间。所以设备的更新也有助于提高溅射钼靶材的利用率。

　　上述就是对如何提高溅射钼靶材利用率的回答，要提高钼溅射靶材的利用率和溅射效率，一种是背面加电磁线圈，另一种是改平面靶材为管状旋转靶材，还有就是通过更新换代溅射设备和增加靶材规格。随着电子行业及太阳能电池的发展，钼靶材作为高附加值电子材料的用量在逐年增加，所以提高提高溅射钼靶材利用率是很有必要的一项措施。我们可提供高纯度的钼靶材，如果您有需要，欢迎在我们网站留言或来电详询。